这 4英寸氧化硅晶片 这款晶圆是科研实验室和小规模半导体生产的理想之选。它采用高质量的热氧化工艺生长出均匀的二氧化硅层,具有卓越的表面光滑度和电绝缘性能。我们的热氧化晶圆适用于器件原型制作、微机电系统(MEMS)制造和光学实验,可确保高纯度和可重复的结果。交货周期:约 2 至 4 周。