產業新聞

超薄困境:半導體製造如何平衡晶圓減薄與翹曲控制?
2026-03-16
對摩爾定律的不懈追求已經從簡單的電晶體尺寸縮小過渡到複雜的3D異構整合和系統級封裝(SiP)架構領域。隨著消費性電子產品對更纖薄的外形和高性能的需求不斷增長…
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為什麼說2026年中國國際半導體展是全球半導體供應鏈不容錯過的盛會?
2026-03-13
半導體產業正站在一個歷史性的十字路口。隨著人工智慧 (AI) 的快速融合、電動車 (EV) 的普及以及摩爾定律的不斷推進,對一個統一平台的需求日益增長…
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如何選擇合適的矽片?解讀電阻率、平整度和摻雜對良率的影響
2026-03-09
要駕馭錯綜複雜的半導體基板領域,需要的不僅是對材料科學的表面了解;它還需要晶圓規格與積體電路的預期架構之間進行策略性協調…
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矽晶圓是如何製造的?從直拉法生長到化學機械拋光的全面指南
2026-03-06
矽晶圓是整個半導體世界的基礎基板。從高效能運算中的邏輯閘到電動車中的功率分立元件,每一個積體電路 (IC) 都始於一塊精心製作的矽晶圓…
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為什麼矽仍然是半導體產業的基石?
2026-03-04
在當今這個高度互聯和計算無所不在的時代,支撐這場數位復興的基礎材料卻始終保持著驚人的一致性:矽。儘管材料科學的視野不斷拓展,湧現出各種奇特的複合材料…
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超越矽的極限:碳化矽 (SiC) 與傳統矽晶圓—您的專案應該採用哪一種?
2026-03-03
半導體產業正經歷著翻天覆地的變化。幾十年來,矽(Si)元素一直是現代電子產品的基石,佔據著絕對主導地位。然而,隨著我們不斷推進一切領域的電氣化——從超大規模資料中心到高…
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300mm 矽晶圓與 200mm 矽晶圓:哪種尺寸較適合您的製造需求?
2026-03-02
在潔淨室的晶瑩剔透的寂靜中,尺寸不僅僅是一個幾何屬性;它代表材料物理和經濟物流的根本性轉變。半導體產業從 200 毫米(8 英吋)直徑向 300 毫米(12 英吋)直徑的過渡…
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如何消除矽片表面的微缺陷?深入探討化學機械拋光 (CMP)。半導體製造中對晶體完美性的追求是一場永無止境的戰鬥。
2026年2月28日
在半導體製造中,對晶體完美性的追求是一場與熵的永無止境的戰鬥。隨著裝置節點朝向5奈米以下尺寸縮小,對錶面缺陷的容許度也隨之降低。而化學機械拋光(CMPS)正是這場追求的核心所在…
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