這 4吋氧化矽晶片 這款晶圓是科研實驗室和小規模半導體生產的理想選擇。它採用高品質的熱氧化工藝生長出均勻的二氧化矽層,具有卓越的表面光滑度和電絕緣性能。我們的熱氧化晶圓適用於裝置原型製作、微機電系統(MEMS)製造和光學實驗,可確保高純度和可重複的結果。交貨週期:約 2 至 4 週。