Płytka tlenkowa

Nasze 8-calowe płytki krzemowe stanowią kluczowe wsparcie dla zaawansowanych węzłów procesowych i produkcji w warstwach 200 mm. Płytki te są niezbędne do kwalifikacji nowych urządzeń, regeneracji komór procesowych oraz pełnią funkcję płytek nośnych w obróbce cienkich płytek, gdzie kluczowa jest doskonała integralność powierzchni i wytrzymałość mechaniczna. Znaczna część tej linii produktów, szczególnie przeznaczona do najbardziej wymagających zastosowań, jest produkowana i objęta gwarancją jakości w naszym japońskim zakładzie partnerskim, co gwarantuje Państwu renomowaną precyzję i niezawodność. Ich wyjątkowa płaskość i niski poziom cząsteczek sprawiają, że nadają się one do najnowocześniejszych fabryk 200 mm oraz wrażliwych procesów, takich jak epitaksja.

Ten 12-calowy wafel tlenku krzemu reprezentuje najwyższy standard w zakresie obróbki podłoży o dużej średnicy. Zaprojektowany do produkcji zaawansowanych półprzewodników i elementów fotonicznych, Wafel termiczny tlenkowy zapewnia doskonałą jednorodność tlenku, niską gęstość defektów i doskonałą niezawodność dielektryczną na platformie 300 mm. Jest stabilny Utlenione podłoże krzemowe Obsługuje urządzenia nowej generacji wymagające ścisłej kontroli procesu i wysokiej wydajności. Czas realizacji: około 2 do 4 tygodni.

Ten 8-calowy wafel tlenku krzemu Został zaprojektowany z myślą o środowiskach produkcyjnych wymagających najwyższej jakości i powtarzalności powłoki. Wykorzystując kontrolowany proces utleniania termicznego, ten wafel z dwutlenku krzemu zapewnia równomierny wzrost tlenku na całej powierzchni wafla. Idealny do integracji CMOS, fotonicznych i MEMS, obsługuje złożone warstwowanie układów i precyzyjne interfejsy dielektryczne. Wszystkie wafle przechodzą rygorystyczną kontrolę w celu zagwarantowania niezawodności. Czas realizacji zamówienia: około 2 do 4 tygodni.

Nasz 6-calowy wafel tlenku krzemu zapewnia doskonałą jednorodność powłoki i płaskość powierzchni, spełniając rygorystyczne wymagania zaawansowanych procesów rozwoju. Precyzyjnie wytworzony wafel SiO₂ zapewnia doskonałą izolację i stabilność chemiczną, dzięki czemu idealnie nadaje się do prototypowania układów scalonych, badań dielektrycznych i nanoprodukcji. Wytwarzany pod ścisłą kontrolą jakości, każdy wafel gwarantuje niezawodną wydajność i stałą jakość utleniania. Wysyłka zazwyczaj w ciągu 2–4 tygodni.

Ten 4-calowy wafel tlenku krzemu To idealny wybór dla laboratoriów badawczych i produkcji półprzewodników na małą skalę. Dzięki jednorodnej warstwie SiO₂ wytworzonej w procesie wysokiej jakości utleniania termicznego, ten wafel zapewnia wyjątkową gładkość powierzchni i izolację elektryczną. Nasz wafel termiczny, odpowiedni do prototypowania urządzeń, produkcji układów MEMS i eksperymentów optycznych, gwarantuje wysoką czystość i powtarzalne wyniki. Czas realizacji: około 2 do 4 tygodni.

Wprowadzenie do produktu:

FSM może dostarczać wafle tlenkowe w różnych rozmiarach, od 8 do 12 cali, z własną fabryką, co gwarantuje stabilną jakość i kontrolowany czas dostawy. Dysponujemy również różnorodnym sprzętem testowym, który w razie potrzeby umożliwia nam świadczenie usług testowania parametrów.