Latin
English Chinese Simplified Chinese Traditional French German Portuguese Spanish Russian Japanese Korean Arabic Irish Greek Turkish Italian Danish Romanian Indonesian Czech Afrikaans Swedish Polish Basque Catalan Esperanto Hindi Lao Albanian Amharic Armenian Azerbaijani Belarusian Bengali Bosnian Bulgarian Cebuano Chichewa Corsican Croatian Dutch Estonian Filipino Finnish Frisian Galician Georgian Gujarati Haitian Hausa Hawaiian Hebrew Hmong Hungarian Icelandic Igbo Javanese Kannada Kazakh Khmer Kurdish Kyrgyz Latin Latvian Lithuanian Luxembou.. Macedonian Malagasy Malay Malayalam Maltese Maori Marathi Mongolian Burmese Nepali Norwegian Pashto Persian Punjabi Serbian Sesotho Sinhala Slovak Slovenian Somali Samoan Scots Gaelic Shona Sindhi Sundanese Swahili Tajik Tamil Telugu Thai Ukrainian Urdu Uzbek Vietnamese Welsh Xhosa Yiddish Yoruba Zulu Kinyarwanda Tatar Oriya Turkmen Uyghur Abkhaz Acehnese Acholi Alur Assamese Awadish Aymara Balinese Bambara Bashkir Batak Karo Bataximau Longong Batak Toba Pemba Betawi Bhojpuri Bicol Breton Buryat Cantonese Chuvash Crimean Tatar Sewing Divi Dogra Doumbe Dzongkha Ewe Fijian Fula Ga Ganda (Luganda) Guarani Hakachin Hiligaynon Hunsrück Iloko Pampanga Kiga Kituba Konkani Kryo Kurdish (Sorani) Latgale Ligurian Limburgish Lingala Lombard Luo Maithili Makassar Malay (Jawi) Steppe Mari Meitei (Manipuri) Minan Mizo Ndebele (Southern) Nepali (Newari) Northern Sotho (Sepéti) Nuer Occitan Oromo Pangasinan Papiamento Punjabi (Shamuki) Quechua Romani Rundi Blood Sanskrit Seychellois Creole Shan Sicilian Silesian Swati Tetum Tigrinya Tsonga Tswana Twi (Akan) Yucatec Maya
inquisitio
Leave Your Message
Prima lamella silicii

Series Productorum

omnes
Lamella Silicis Gradus Simulati DSP 12unciarum 300mm
01

Duodecim unciarum 300mm DSP simulatae qualitatis siliconis...
Lamella Silicis Gradus Simulati SSP/DSP 8 pollicum 200 mm
02

Silicium fictitium gradus SSP/DSP, 8 pollices, 200 mm...
Lamella simulata siliconis SSP 6 pollices 150 mm
III

Lamella simulata siliconis SSP 6 pollices 150 mm
Lamella simulata siliconis SSP 4 pollices 100 mm
04

Lamella simulata siliconis SSP 4 pollices 100 mm
Crustulum Silicii Oxidi Thermalis 12 pollicum 300 mm
05

Crustulum Silicii Oxidi Thermalis 12 pollicum 300 mm
Lamella oxydati silicii SiO2 8 pollicum 200 mm
VI

Lamella oxydati silicii SiO2 8 pollicum 200 mm
Lamella Silicii Oxidi Thermalis 6 pollicum 150 mm
VII

Lamella Silicii Oxidi Thermalis 6 pollicum 150 mm
Lamella SiO2 4 pollicum Lamella Oxido Silicii 100 mm
VIII

Lamella SiO2 4 pollices 100 mm Oxido Silicii ...

FSM De Silicio Subtili

Fabrica Silicii Exquisiti (Shanghai) Ltd.

Societas "Fine Silicon Manufacturing" (Shanghai) Ltd. (FSM) anno 2008 condita est, cuius sedes est Shanghaii, in Zona Libera Commercii Waigaoqiao sita. FSM est una ex primis societatibus quae in Sinis in processu et venditione laminarum silicii versatarum versatur. Anno 2015, ramus Iaponicus KOD Corporation Tokii conditus est. Nunc, FSM Group duas officinas Shanghaii et Iaponiae habet, quarum capacitas menstrua processus 120 000 laminarum silicii duodecim unciarum est.

plura vide
  • mille
    +
    Clientes globales
  • 34000
    M²
    basis productionis
demo165-de-about
video-bg btn-bg-1
GFINE

commodum

Conditio geographica et transportatio commoda ad totum orbem terrarum.
Basis officinae
Duae Bases
Duae sedes productionis in mundo (Shanghai, Tokyo)
jxjf-commodum-2
Vectura
Celeris Traditio
jxjf-commodum-3
Customizatio
Officia ad usum aptata praebemus
Clientes Nostri (5)
Turma Professionalis
Anno MMVIII condita, turma nostra plus quam XVI annos experientiae habet.
jxjf-commodum-5
Post venditionem
Post venditionem sine cura
OMNES

productum
Applicatio

1 Lamella Nitridi Silicii

Lagana vitrea

Laminae vitreae sunt laminae vitreae rotundae ex materiis vitreis elaboratae. Solent ex variis generibus vitri, quarzo, vitro sine alcali, et materiis compositis vitro-silicio fiunt, et in industriis semiconductorum et microelectronicorum adhibentur. Laminae vitreae habent magnam resistentiam chemicam et stabilitatem thermalem, asperitatem superficialem humilem, transmittanciam magnam, et cetera. Hae proprietates eas late adhiberi faciunt.
jxjf-casus-plus
Lagana vitrea

Lamella Nitridi Silicii

Lamellae nitridi silicii (Si3N4) propter proprietates suas singulares materia magni momenti sunt in variis applicationibus technologiae provectae. Hae lamellae imprimis in industria semiconductorum adhibentur, sed applicationes earum multo ultra extenduntur, eas electionem versatilem ad innumerabilia progressa technologica reddens.
jxjf-casus-plus
3 Lamellae Nitridi Silicii

Crustulum Oxidi Silicii

Lamellae oxidi silicii, quae etiam lamellae dioxidi silicii appellantur, pars integralis in industria semiconductorum et variis applicationibus technologicis sunt. Proprietates earum singulares eas ad latam usum pertinentium reddunt, a microelectronicis ad opticam. Hic articulus applicationes lamellarum oxidi silicii penitus examinat, earum momentum in technologia moderna illustrans.
jxjf-casus-plus
Nitridum Silicii Wafer3

Lamella silicii

Lamella est rotunda lamella siliconis et etiam est vector ad circuitus integratos producendos. In producta circuituum integratorum cum variis structuris partium circuituum et functionibus electricis specificis transformari potest.
jxjf-casus-plus

Solutio productum

Conditio geographica et transportatio commoda ad totum orbem terrarum.

OBULE FACTUM XII UNCIARUM

Silicium ficticium crustulum

Filum et Funem UL
Plura vide
Lamella probationis silicii

Lamella probationis silicii

Fila interna connectentia autocinetica DIN, AS, JIS, GB
Plura vide
Lamella Silicii Primi

Lamella Silicii Primi

Funiculus Potestatis
Plura vide
Oxidum crustulum

Oxidum crustulum

Funis in Invertore Solor adhibitus
Plura vide

nuntii novissimi

Omnes Nuntii
Uniformitas Crassitudinis Oxidi Thermalis (SiO2) et Dissolutio Dielectrica in Probatione Oxidi Portae
01
dies: Aug.05,2026

Oxidum Thermale (SiO2) Crassitudo...

plura vide
Substrata Epitaxialia contra Crustulas CZ in Massa pro Circuitis Integratis Altae Tensionis: Efficacia, Densitas Vitiorum, et Optimizatio Tensionis Disruptivae.
02
dies: Aug.04,2026

Substrata Epitaxialia contra Bu...

plura vide
Asperitas Superficiei Laminarum Politarum Unius Lateris contra Utraque Latera (SSP contra DSP), Metrica Vitiorum, et Congruentia Applicationum
III
dies: Aug.III,2026

Latus Unius contra Latus Utrinque...

plura vide
Oblatae Silicii Tenuissimae (
04
dies: Iul.XXXI,2026

Oblatae Silicii Tenuissimae (

plura vide
Laminae Altae Temperaturae Recoctae contra Laminas CZ Ordinarias: Eliminatio Praecipitationum Oxygenii pro Instrumentis Potestatis Provectis
05
dies: Iul.triginta,2026

Altae Temperaturae Recoctum Laminam...

plura vide
Involucrum Lamellarum Silicii et Inspectio Qualitatis Ingressae (IQC): Praeventio Fragilitatis Marginis et Contaminationis Organicae
VI
dies: Iul.XXIX,2026

Involucrum Crustularum Silicii et...

plura vide