Catalan

English Chinese Simplified Chinese Traditional French German Portuguese Spanish Russian Japanese Korean Arabic Irish Greek Turkish Italian Danish Romanian Indonesian Czech Afrikaans Swedish Polish Basque Catalan Esperanto Hindi Lao Albanian Amharic Armenian Azerbaijani Belarusian Bengali Bosnian Bulgarian Cebuano Chichewa Corsican Croatian Dutch Estonian Filipino Finnish Frisian Galician Georgian Gujarati Haitian Hausa Hawaiian Hebrew Hmong Hungarian Icelandic Igbo Javanese Kannada Kazakh Khmer Kurdish Kyrgyz Latin Latvian Lithuanian Luxembou.. Macedonian Malagasy Malay Malayalam Maltese Maori Marathi Mongolian Burmese Nepali Norwegian Pashto Persian Punjabi Serbian Sesotho Sinhala Slovak Slovenian Somali Samoan Scots Gaelic Shona Sindhi Sundanese Swahili Tajik Tamil Telugu Thai Ukrainian Urdu Uzbek Vietnamese Welsh Xhosa Yiddish Yoruba Zulu Kinyarwanda Tatar Oriya Turkmen Uyghur Abkhaz Acehnese Acholi Alur Assamese Awadish Aymara Balinese Bambara Bashkir Batak Karo Bataximau Longong Batak Toba Pemba Betawi Bhojpuri Bicol Breton Buryat Cantonese Chuvash Crimean Tatar Sewing Divi Dogra Doumbe Dzongkha Ewe Fijian Fula Ga Ganda (Luganda) Guarani Hakachin Hiligaynon Hunsrück Iloko Pampanga Kiga Kituba Konkani Kryo Kurdish (Sorani) Latgale Ligurian Limburgish Lingala Lombard Luo Maithili Makassar Malay (Jawi) Steppe Mari Meitei (Manipuri) Minan Mizo Ndebele (Southern) Nepali (Newari) Northern Sotho (Sepéti) Nuer Occitan Oromo Pangasinan Papiamento Punjabi (Shamuki) Quechua Romani Rundi Blood Sanskrit Seychellois Creole Shan Sicilian Silesian Swati Tetum Tigrinya Tsonga Tswana Twi (Akan) Yucatec Maya

consulta

Leave Your Message

Oblia de silici fictícia

Prova d'oblia de silici

Oblea de silici principal

Sèrie de productes

tot

Oblea de silici de grau fictici DSP de 12 polzades i 300 mm

12 polzades 300 mm DSP de silici de grau fictici...

Oblea de silici de grau fictici SSP/DSP de 8 polzades i 200 mm

8 polzades 200 mm SSP/DSP de grau fictici...

Oblia simulada de silici SSP de 6 polzades i 150 mm

Oblia simulada de silici SSP de 6 polzades i 150 mm

Oblea simulada de silici SSP de 4 polzades i 100 mm

Oblea simulada de silici SSP de 4 polzades i 100 mm

Oblea de silici d'òxid tèrmic de 12 polzades i 300 mm

Oblea de silici d'òxid tèrmic de 12 polzades i 300 mm

Oblia d'òxid de silici SiO2 de 8 polzades i 200 mm

Oblia d'òxid de silici SiO2 de 8 polzades i 200 mm

Oblia de silici d'òxid tèrmic de 6 polzades i 150 mm

Oblia de silici d'òxid tèrmic de 6 polzades i 150 mm

Oblia de SiO2 de 4 polzades Oblia d'òxid de silici de 100 mm

Oblia de SiO2 de 4 polzades i 100 mm d'òxid de silici...

FSM Sobre el silici fi

Fabricació de silici fi (Xangai) Ltd.

Fine Silicon Manufacturing (Shanghai) Ltd. (FSM) es va establir el 2008 i té la seu a Xangai, a la zona de lliure comerç de Waigaoqiao. FSM és una de les primeres empreses dedicades al processament i venda de oblies de silici a la Xina. El 2015, es va establir la sucursal japonesa KOD Corporation a Tòquio. Actualment, FSM Group té dues plantes a Xangai i al Japó, amb una capacitat de processament mensual de 120.000 oblies de silici de 12 polzades.

1000

+

Clients globals
34000
m²

de la base de producció

demo165-sobre

vídeo-bg

GFINE

avantatge

Condició geogràfica i transport convenient a tot el món.

Base de fàbrica

2 bases de producció al món (Xangai, Tòquio)

jxjf-avantatge-2

Lliurament ràpid

jxjf-avantatge-3

Personalització

Oferim serveis personalitzats

Els nostres clients (5)

Equip professional

Fundat el 2008, el nostre equip té més de 16 anys d'experiència

jxjf-avantatge-5

Sense preocupacions després de la venda

TOT

producte
Aplicació

1 oblia de nitrur de silici

Oblia de vidre

Les oblies de vidre són làmines de vidre rodones processades a partir de materials de vidre. Normalment estan fetes de diferents tipus de vidre, quars, vidre sense àlcalis i materials compostos de vidre-silici, i s'utilitzen en les indústries de semiconductors i microelectrònica. Les oblies de vidre tenen una alta resistència química i estabilitat tèrmica, baixa rugositat superficial, alta transmitància, etc. Aquestes característiques les fan àmpliament utilitzades.

Oblia de nitrur de silici

Les oblies de nitrur de silici (Si3N4) són un material clau en una varietat d'aplicacions d'alta tecnologia a causa de les seves propietats úniques. Aquestes oblies s'utilitzen principalment a la indústria dels semiconductors, però les seves aplicacions van molt més enllà, convertint-les en una opció versàtil per a nombrosos avenços tecnològics.

3 Oblia de nitrur de silici

Oblia d'òxid de silici

Les oblies d'òxid de silici, també conegudes com a oblies de diòxid de silici, són un component integral de la indústria dels semiconductors i una varietat d'aplicacions tecnològiques. Les seves propietats úniques les fan essencials per a una àmplia gamma d'usos, des de la microelectrònica fins a l'òptica. Aquest article analitza en profunditat les aplicacions de les oblies d'òxid de silici, destacant la seva importància en la tecnologia moderna.

Oblea de nitrur de silici3

Oblia de silici

Una oblia és un xip de silici rodó i també és el suport utilitzat per produir circuits integrats. Es pot processar en productes de circuits integrats amb diverses estructures de components de circuit i funcions elèctriques específiques.

Solució producte

Condició geogràfica i transport convenient a tot el món.

OBLÍE FICTÍCIA DE 12 POLZADES

Oblia de silici fictici

Cable i filferro UL

Veure més detalls

Oblia de prova de silici

Oblia de prova de silici

Cables de connexió interna per a automoció de DIN, AS, JIS, GB

Veure més detalls

Oblia de silici Prime

Oblia de silici Prime

Cable d'alimentació

Veure més detalls

Oblia d'òxid

Oblia d'òxid

Cable utilitzat en l'inversor Solor

Veure més detalls

últimes notícies

Totes les notícies

Uniformitat del gruix de l'òxid tèrmic (SiO2) i ruptura dielèctrica en proves d'òxid de porta

data: Agost05,2026

Espessidor d'òxid tèrmic (SiO2)...

Substrats epitaxials vs. oblies CZ a granel per a circuits integrats d'alta tensió: rendiment, densitat de defectes i optimització de la tensió de ruptura

data: Agost04,2026

Substrats epitaxials vs. Bu...

Rugositat superficial, mètriques de defectes i coincidència d'aplicacions de les oblies polides d'una sola cara vs. de doble cara (SSP vs. DSP)

data: Agost03,2026

Una cara vs. Doble cara...

Oblies de silici ultrafines (

data: Juliol31,2026

Oblies de silici ultrafines (

Oblies recuites a alta temperatura vs. oblies CZ estàndard: eliminació de precipitats d'oxigen per a dispositius d'alimentació avançats

data: Juliol30,2026

Acer inoxidable recoit a alta temperatura...

Envasament de galeta de silici i control de qualitat entrant (IQC): prevenció de l'esquerdament de les vores i la contaminació orgànica

data: Juliol29,2026

Embalatge de galeta de silici i...